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光学薄膜测量仪的测量原理和优势特征详细说明

发布时间:2022-06-16    点击次数:44
   光学薄膜测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元,所以其配置紧凑,仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑,节省空间,适合安装进用户的系统中,可进行多种目标的测量。此外,该仪器为无参照物测量,因此省略了烦人的参照物测量,可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。
 
  光学薄膜测量仪的测量原理:
  表面轮廓:
  垂直于样品表面的入射光,经过表面反射后形成的反射角,会因表面轮廓的不同而产生变化。正是依据测量点之间反射角的变化,通过软件重新计算并构建了样品表面轮廓,实现了全自动高精度的测量。
 
  薄膜应力:
  对于薄膜、单层或者多层镀膜的应力,软件主要依据理论,通过检测镀膜前后,基板曲率半径的变化量计算得到。比如在半导体行业或者其他应用领域,当反射表面被加工处理后(镀膜或者去镀膜),操作人员能够利用快速地对晶圆薄膜应力进行检测。
 

光学薄膜测量仪

 

  光学薄膜测量仪的优势特征:
  1、本测试仪特赠设测试结果自动分类功能。
 
  2、可定制USB通讯接口,便于其拓展为集成化测试系统中的测试模块。
 
  3、8档位超宽量程。同行一般为五到六档位。
 
  4、仪器小型化、手动/自动一体化。
 
  5、操作简便、性能稳定,所有参数设定、功能转换全部采用数字化键盘输入,简便而且免除模拟定位器的不稳定。

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